您现在的位置是:主页 > 生财有道 >SEZ发表全新单晶圆FEOL光阻去除解决方案 >

    2019-10-11SEZ发表全新单晶圆FEOL光阻去除解决方案

    建置于SEZ全新FEOL单晶圆机台的最佳化Enhanced Sulfuric Acid™ (ESA™)

    去除製程预计于今年下半年度发表

    台北讯—7月20日—全球半导体产业单晶圆溼式清洗解决方案的领导设备供应商SEZ Group (SWX。

    关于SEZ Group

    SEZ Group 是全球半导体产业单晶圆溼式清洗解决方案的领导供应商,在全球各地安装超过1000套SEZ所提供的工具。SEZ Group在亚 洲、欧洲、日本及北美等地均设有营运据点。自1996年,SEZ Holding 在瑞士证交所以SEZN代号挂牌交易。相关详细资讯请参考